真空镀膜技术---发展现状,真空镀膜技术是真空应用技术的重要组成部分,是一项综合的、应用范围很广的---技术,是许多学科发展的基础技术之一,同时也是当今信息时代中许多---发展必不可少的手段。
真空镀膜技术及设备在当今和未来都拥有十分广阔的应用领域和发展前景 ---是在制造---集成电路的电学膜:数字式纵向与横向均可磁化的数据纪录储存膜:在能充分展示和应用各种光学特性的光学膜;在计算机显示用的感光膜;在tft、pdp平面显示器上的导电膜和增透膜;在建筑、汽车行业上应用的玻璃镀膜和装饰膜;在包装领域用防护膜、阻隔膜;在装饰材料上具有各种功能装饰效果的功能膜;在工、模具上应用的耐磨超。
从目前真空镀膜设备的市场发展现状来看,国外许多实力---的真空镀膜设备生产商已在成立了许多合资或独资的加工企业,浏阳真空镀加工厂家,并将一些新的真空镀膜工艺技术和产品移植到这些企业中来。因此我国真空镀膜设备在今后三~五年内的主要市场除了国内的企业外,外商投资企业也是设备需求新的增长点。
真空镀膜工艺技术的不断发展,也推动了真空镀膜设备的不断更新,真可谓是一代工艺、一代设备,而各类新的真空镀膜设备的出现,又为---、复杂的工艺应用于工业化生产提供了---的---。以下将从真空镀膜设备的几个主要应用领域,简述---真空镀膜应用技术及设备的基本现状及主要差距。
通常在中,真空镀加工厂家,真金电镀加工有很多叫法,其中也有叫真空蒸镀法,是在高度真空条件下加热金属,使其熔融、蒸腾,冷却后在被镀金属外表构成金属薄膜的办法。常用的金属是铝等低熔点金属。
置待镀金属和被镀塑料制品于真空室内,选用必定办法加热待镀资料,其中的使金属蒸腾或提高,金属蒸汽遇到冷的金属制品外表凝集成金属薄膜。
加热金属的办法:有使用电阻发生的热能,也有使用电子束的。
在对金属制品施行蒸镀时,为了---金属冷却时所散发出的热量不使树脂变形,必须对真金电镀加工时间进行调整。此外,提醒一点的是熔点、沸点太高的金属或合金不适合于蒸镀。
1、设备中的真空管道、静态密封零部件(法兰、密封圈等)的结构形式,应符合gb/t6070的规定。
2、在低真空和高真空管道上及真空镀膜室上应安装真空测量规管,分别测量各部位的真空度。当发现电场对测量造成干扰时,应在测量口处安装电场屏蔽装置。
3、如果设备使用的主泵为扩散泵时,应在泵的进气口一侧装设有油蒸捕集阱
4、设备的镀膜室应设有观察窗,应设有挡板装置。观察窗应能观察到沉积源的工作情况以及其他关键部位。
5、离子镀沉积源的设计应尽可能提高镀膜过程中的离化率,提高镀膜材料的利用率,合理匹配沉积源的功率,合理布置沉积源在真空室体的位置。
6、合理布置加热装置,一般加热器结构布局应使被镀工件温升均匀一致。
7、工件架应与真空室体绝缘,工件架的设计应使工件膜层均匀。
8、离子镀膜设备一般应具有工件负偏压和离子轰击电源,离子轰击电源应具有抑制非正常放电装置,维持工作稳定。
9、真空室接不同电位的各部分间的绝缘电阻值的大小,湘乡真空镀加工厂家,均按gb/t11164-1999中的4、4、6
10、其他注意事项
(1)环境温度:10-30oc
(2)相对湿度:不大于75%
(3)冷却水进水温度:不高于25oc
(4)冷却水质:城市自来水或相当的水。
(5)供电电源:380v三相50hz或220v单相50hz(由所用电器需要而定);电压波动范围:342-399v或198-231v;频率波动范围:49-51hz。
(6)设备所需的压缩空气,液氮,冷水、热水等的压力、温度,消耗量等,均应在产品使用说明书中写明。
(7)设备周围环境整洁,空气清洁,不应有引起电器及其他金属件表面腐蚀或引起金属间导电的尘埃或气体存在。
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