1.在前处理的时候酒精或者去啧油含有水分，擦拭后未挥发完毕。
2.亚克力的也会出现类似于水纹的，是溶剂咬合素材后产生的。
3.镀膜后有擦到镀膜层造成的。
4.镀膜后喷中漆擦拭造成的
一种由物理方法产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术酔先用于生产光学镜片，如航海望远镜镜片等。后延伸到其他功能薄膜，唱片镀铝、装饰镀膜和材料表面改性等。如手表外壳镀仿金色，娄底真空镀加工厂家，机械刀具镀膜，改变加工红硬性。
在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。
真空镀膜技术初现于20世纪30年代，四五十年代的时候开始出现工业应用，工业化---生产开始于20世纪80年代，在电子、宇航、包装、装潢、烫金印刷等工业中取得广泛的应用。真空镀膜是指在真空环境下，将某种金属或金属化合物以气相的形式沉积到材料表面(通常是非金属材料)，属于物理气相沉积工艺。因为镀层常为金属薄膜，真空镀加工厂家，故也称真空金属化。广义的真空镀膜还包括在金属或非金属材料表面真空蒸镀聚合物等非金属功能性薄膜。在所有被镀材料中
1、设备中的真空管道、静态密封零部件（法兰、密封圈等）的结构形式，应符合gb/t6070的规定。
2、在低真空和高真空管道上及真空镀膜室上应安装真空测量规管，分别测量各部位的真空度。当发现电场对测量造成干扰时，应在测量口处安装电场屏蔽装置。
3、如果设备使用的主泵为扩散泵时，应在泵的进气口一侧装设有油蒸捕集阱
4、设备的镀膜室应设有观察窗，应设有挡板装置。观察窗应能观察到沉积源的工作情况以及其他关键部位。
5、离子镀沉积源的设计应尽可能提高镀膜过程中的离化率，提高镀膜材料的利用率，合理匹配沉积源的功率，合理布置沉积源在真空室体的位置。
6、合理布置加热装置，一般加热器结构布局应使被镀工件温升均匀一致。
7、工件架应与真空室体绝缘，工件架的设计应使工件膜层均匀。
8、离子镀膜设备一般应具有工件负偏压和离子轰击电源，离子轰击电源应具有抑制非正常放电装置，维持工作稳定。
9、真空室接不同电位的各部分间的绝缘电阻值的大小，均按gb/t11164-1999中的4、4、6
10、其他注意事项
（1）环境温度：10-30oc
（2）相对湿度：不大于75%
（3）冷却水进水温度：不高于25oc
（4）冷却水质：城市自来水或相当的水。
（5）供电电源：380v三相50hz或220v单相50hz(由所用电器需要而定)；电压波动范围：342-399v或198-231v；频率波动范围：49-51hz。
（6）设备所需的压缩空气，液氮，冷水、热水等的压力、温度，消耗量等，均应在产品使用说明书中写明。
（7）设备周围环境整洁，空气清洁，不应有引起电器及其他金属件表面腐蚀或引起金属间导电的尘埃或气体存在。
钟表手表是人们一直以来喜爱的商品，市场上有很多不同的钟表品牌，商家为了提高，钟表手表真空电镀加工必不可少，大部分手表都是五金材质的。可以使膜层快速附着于手表配件上面，坚固牢靠，不易脱落，能够有效保护产品不易受侵蚀，使用寿命更---。
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